인텔은 11일(미국 현지 시간) 미 오리건州 힐스보로에 위치한 반도체 공장 D1X 확장 오프닝 행사를 가졌다. 팻 겔싱어(Pat Gelsinger) 인텔 CEO는 美 정부 고위관계자 및 지역사회 관계자가 참석한 리본 커팅식에서 오리건州에 대한 인텔의 노력을 거듭 강조했다. 또한 약 500 에이커 규모의 론러 에이커스 캠퍼스를 ‘고든 무어 파크(Gordon Moore Park)’로 개명했다. 인텔 공동 창업자 고든 무어가 1965년 발표한 무어의 법칙을 지난 50년 이상 이끌어 온 역사와 공로를 기념하기 위함이다.
팻 겔싱어(Pat Gelsinger) 인텔 CEO는 “인텔은 창립 이래 무어의 법칙을 끊임없이 발전시키는 데 주력해왔다”며, “새롭게 확장하는 D1X는 인텔의 도전적인 IDM 2.0 전략을 지원하기 위해 더욱 빠르게 공정 로드맵을 제공할 수 있도록 역량을 강화할 것이다. 오리건州는 인텔 글로벌 반도체 연구개발의 심장이다. 반도체 산업 발전의 핵심적인 역할을 한 고든 무어의 유산을 기념하는 가장 좋은 방법은 오리건 캠퍼스에 그의 이름을 부여하는 것”이라고 말했다.
고든 무어 파크는 글로벌 기술 개발 조직 본부로 무어의 법칙을 발전시키기 위해 신규 트랜지스터 아키텍처, 웨이퍼 공정 및 패키징 기술을 개발, 회사의 제품 로드맵을 뒷받침하고 개인용 컴퓨터, 클라우드 인프라 및 5G 네트워크를 아우르는 애플리케이션의 기반을 제공하는 역할을 수행한다. 고든 무어 파크에는 현재 힐스보로를 중심으로 약 1만여 명의 직원이 근무하고 있으며, 세계 최고 실리콘 공정 엔지니어링 조직 중 하나로 널리 인정받고 있다.
지난 25년 간 오리건 캠퍼스의 엔지니어와 과학자는 컴퓨터 칩 구성요소의 크기가 원자 수준으로 작아짐에 따르는 물리적 한계를 지속적으로 극복해왔다. 인텔은 하이-케이 메탈 게이트 기술, 트라이게이트 3D 트랜지스터 및 스트레인드 실리콘 등의 혁신 기술을 통해 무어의 법칙이 정의한 혁신의 속도에 발맞춰 기초 공정 혁신을 이뤄온 바 있다.
30억 달러 이상 투자 규모를 투자하는 D1X의 모드3(Mod3)를 통해 27만 평방피트의 무균실이 추가 확보됐다. D1X 공장에서는 다양한 논리 프로세스 기술을 다양한 단계에서 개발하고 있다. 신규 공정 기술은 오리건 주에 있는 중앙 개발 공장에서 글로벌 제조 네트워크 시설로 동일하게 이전된다.
한편, 오리건州에 위치한 인텔 사업장은 포틀랜드에서 서쪽으로 약 32km 떨어진 힐스버러에 위치한 4개 캠퍼스에 달하는 세계에서 가장 큰 시설로, 현재 약 2만 2천명의 임직원이 근무하고 있다. 모드3 확장 계획까지 인텔이 오리건州에 투자한 금액은 520억 달러 이상 규모다. 2019년도 자료에 따르면 인텔이 직접적인 경제 영향을 가장 크게 미친 지역은 오리건州다. 임직원, 광범위한 현지 계약 및 공급자 네트워크, 자본 투자 및 기타 영향으로 인텔은 연간 10만 5천개 이상의 일자리, 100억 달러 이상의 급여, 그리고 190억 달러 상당의 국내총생산에 기여했다.
By 김현동 에디터
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